小型真空鍍膜機是我公司專為科研院所及實驗室用戶群體設計開發(fā)的一款小型高真空蒸發(fā)鍍膜系統(tǒng)。采用大抽速分子泵準無油高真空系統(tǒng)，機架電控一體化設計，整體布局緊湊合理，充分考慮人機工程學的傾斜操控面板和可直觀觀察蒸發(fā)狀態(tài)的玻璃真空室結構相得益彰。兩組/三組蒸發(fā)源可兼容金屬、有機物蒸發(fā)。廣泛應用于高校、科研院所教學、制備功能薄膜、蒸鍍電極、掃描電鏡制樣等，特別適合太陽能電池、有機EL、LED顯示管研究與開發(fā)領域。
小型真空鍍膜機主要特點/優(yōu)勢：
★ 玻璃鐘罩真空腔室，最直觀的蒸發(fā)狀態(tài)和薄膜沉積現(xiàn)象觀察；
★ 復合分子泵和直聯(lián)旋片泵，大抽速準無油真空系統(tǒng)(分子泵抽速≥400L/S)；
★ 兩組水冷式蒸發(fā)電極，可長時間穩(wěn)定工作，兼容金屬材料與有機材料的蒸發(fā)源設計；
★ 專業(yè)真空蒸發(fā)電源，數(shù)顯工作電流和電壓，恒流輸出；
★ 可鍍110mm方形基片或15～25mm ITO/FTO玻璃25片，可定制一體化高精度刻蝕掩膜板；
★ 襯底可選擇加熱或水冷，源基距≥300mm；
★ 良好的薄膜均勻性和重復性，可在線監(jiān)測和控制蒸發(fā)速率、膜厚；
★ 可沉積金屬(Au, Ag, Al, Ca, Cu, Mg, Fe, Cr, Ni等)、非金屬、化合物(MoO3, LiF等)及有機物材料，可拓展沉積單層膜、多層膜及混合膜；
★ 設備集成度高，結構緊湊，占地面積小(0.92平米)；設備配腳輪，方便移動和定位。
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